4399视频

泉意光罩是一家以高階(jie)光罩研(yan)發(fa)生產為主的高端制造型(xing)企業。

光罩（Mask，Photomask）又稱(cheng)光掩模版，是在制作芯片(pian)(pian)時作為芯片(pian)(pian)電路圖的底片(pian)(pian)以供光刻機制作IC芯片(pian)(pian)的一種光學元件，是IC芯片(pian)(pian)從設計到成品的關(guan)鍵環(huan)節(jie)。

目前泉意(yi)光(guang)罩(zhao)(zhao)有(you)員工170余人，光(guang)罩(zhao)(zhao)技術團隊來(lai)自臺灣和大陸著名集成電路企業(ye)。公(gong)司擁有(you)全球最尖端的EUV光(guang)罩(zhao)(zhao)寫入(ru)機，也(ye)是(shi)國內僅(jin)有(you)的幾臺高(gao)階EUV光(guang)罩(zhao)(zhao)寫入(ru)機，其最高(gao)制(zhi)程可達7nm。廠區(qu)位于濟南市高(gao)新區(qu)臨空經濟開發區(qu)航天大道東端。

公司以7-12nm制程IC芯片用(yong)高階光罩(zhao)為主要目標，致(zhi)力于成為國內一(yi)流，國際知名的高階光罩(zhao)生(sheng)產(chan)企業。